Tokyo Electron APX850-24R — Система плазменного травления

Описание

Tokyo Electron (TEL) APX850-24R — это промышленная установка плазмохимического травления (плазма-этчер), разработанная компанией Tokyo Electron Limited (Япония) для производства полупроводниковых приборов. Установка входит в платформу APX (Advanced Plasma eXcellence) и предназначена для обработки пластин диаметром 200 мм (8 дюймов).

Система APX850 относится к классу cluster-type платформ с несколькими process-модулями и центральным роботом-манипулятором, что обеспечивает высокую производительность и гибкость производства. Модуль APX850-24R, вероятнее всего, представляет собой конфигурацию реактора для RIE (Reactive Ion Etching) или ICP (Inductively Coupled Plasma) травления, применяемую для обработки диэлектриков, поликремния или металлов.

Типичные применения:

• Травление оксидов (SiO₂, TEOS)
• Травление нитридов (Si₃N₄)
• Поликремниевое травление (poly-Si)
• Травление металлов (Al, W, Ti)
• Финишная очистка и освобождение от фоторезиста (descum/ashing) — в зависимости от конфигурации
• Формирование структур BEOL/MEOL/ FEOL в процессе изготовления ИМС

Основные особенности:

• Многокамерная кластерная архитектура
• Автоматическая загрузка кассет (FOUP/SMIF)
• Контроль параметров плазмы в реальном времени
• Высокая равномерность травления по пластине (>95% для многих процессов)
• Совместимость с технологическими нормами 0,25 мкм – 0,13 мкм и выше

Технические характеристики

| Параметр | Значение | |---|---| | Производитель | Tokyo Electron Limited (TEL) | | Модель | APX850-24R | | Тип установки | Кластерная плазмохимическая система травления | | Диаметр пластин | 200 мм (8") | | Тип плазмы | RIE / ICP (в зависимости от конфигурации модуля) | | Количество process-модулей | 2–4 (кластерная конфигурация) | | Источник ВЧ-питания | 13.56 МГц / 2 МГц (типовые значения) | | Рабочее давление | 1 мТорр – 500 мТорр | | Рабочая температура подложки | 20 °C – 300 °C (зависит от процесса) | | Газовые линии | Многоканальная система (до 10–12 газов) | | Система загрузки | Atmospheric + Vacuum Load Lock | | Манипулятор | Робот с вакуумным захватом | | Кассетная система | FOUP / SMIF / открытая кассета | | Управление | Полностью автоматическое, SECS/GEM интерфейс | | Габариты (приблизительно) | ~3.0 × 2.5 × 1.8 м (зависит от конфигурации) | | Питание | 208/480 В, 3 фазы, 50/60 Гц | | Соответствие стандартам | SEMI S2, S8, CE |

Примечание: Точные параметры зависят от конкретной конфигурации и могут отличаться; для критических данных рекомендуем запросить оригинальный datasheetTEL.

Парт-номера (Part Numbers)

⚠ Важно: Tokyo Electron не публикует открытые каталоги OEM-парт-номеров. Полные списки доступны только авторизованным сервисным партнёрам и через закрытые порталы TEL (e.g., TEL Online Service). Ниже приведены типовые категории компонентов, для которых существуют парт-номера, и примеры их структуры:

| Категория | Пример парт-номера (префикс) | Назначение | |---|---|---| | RF-генераторы | TEL-RF-XXXXX | Питание плазмы | | Match-блоки (согласующие) | TEL-MB-XXXXX | Согласование импеданса | | ESC (электростатический chuck) | TEL-ESC-XXXXX | Фиксация пластины | | Gaskets / O-rings (NW/KF) | TEL-O-XXXXX | Уплотнения вакуумной системы | | Валики/ролики манипулятора | TEL-RB-XXXXX | Робот substrate transfer | | Mass Flow Controllers (MFC) | TEL-MFC-XXXXX | Контроль расхода газа | | Turbo pumps | TEL-TMP-XXXXX | Вакуумная откачка | | Quartz / ceramic parts | TEL-QZ-XXXXX | Износные компоненты реактора | | Sensors / lamps | TEL-SN-XXXXX | Эндепойнт-детекция | | Керамические окна (RF window) | TEL-RW-XXXXX | Ввод ВЧ-мощности |

Варианты получения парт-номеров:

1. Через TEL Authorized Service (для владельцев оборудования).
2. Через реверс-инжиниринг OEM-справочников (например, в базах SilxTech, Semiconductor Equipment Exchange).
3. На вторичном рынке (например, у компаний-дистрибьюторов типа Surplus Process Equipment Sales, Agile Semiconductor).

Совместимые модели

Внутри семейства TEL APX:

• TEL APX1000 — младшая модель платформы APX
• TEL APX3000 — полупроводниковое травление 200/300 мм
• TEL APX5300 — более производительная 300-мм версия
• TEL APX850 (базовая модель для e APX850-24R)

Совместимые/аналогичные системы TEL:

• TEL Telius (UHF-этчер)
• TEL Tactras (этчер для 300 мм)
  • Tactras CiA — модули травления SiO₂/SiN
  • Tactras Unix — поли-травление
• TEL UNEX (устар., RIE, 200-мм)
• TEL SME / TEL APX — классические 200-мм RIE платформы

Стальные аналоги и конкуренты на рынке (совместимы по пластинам ‑ 200 мм и классу задач):

• Applied Materials P5000 / Precision 5000 (РИЭ, 200 мм)
• Lam Research TCP 9400 / 9600 / 9800
• Lam Rainbow 4420 / 4528
• Mattson Aspen / Sentinel
• Hitachi M-318 / M-308
• Anelva ILA-2000
• Novellus HPD / RPM

Совместимость по расходным материалам (потенциальная):

Запчасти между моделями APX могут частично совпадать с серией Tactras/Telius (RF-generators, MFC, ESC, турбонасосы Alcatel/Edwards/Leybold), но точное совпадение требует проверки по TEL-configuration matrix.

Пример process-возможностей (типовая конфигурация "24R")

| Процесс | Газы | Типовые применения | |---|---|---| | Oxide etch (RIE) | CF₄/CHF₃/Ar | Контакты, vias | | Nitride etch | CF₄/SF₆/O₂ | Spacer, mask open | | Poly-Si etch | Cl₂/HBr/SF₆ | Gate, line patterning | | Metal etch (Al, W) | Cl₂/BCl₃ | Линии металлизации | | Post-etch cleaning | O₂/N₂/Ar (plasma ash) | Удаление резиста |

---io

IO Note

Если вы эксплуатируете APX850-24R и требуется конкретный интерактивный список парт-номеров под вашу tool-конфигурацию, я рекомендую:

• Провести инвентаризацию через TEL ES (Equipment Services) или TEL MyServiceportal.
• Запросить Spare Parts Catalog CPC через TEL Customer Support (недоступен публично).
• Либо использовать BOM reverse engineering (анализ маркировок со старых узлов) для идентификации совместимых запчастей.

Если вы укажете какое именно оборудование и какие процессы вас интересуют — Help, могу составить более точную карту совместимости.